講述低溫CRF等離子表面處理設備如何提高材質的絕緣性能能:
       隨著材料科學的發(fā)展，越來越多的專家對絕緣層材料的表面改性或納米改性進行了研究。CRF等離子表面處理裝置可增強絕緣層材料的電荷量耗散率，并增強其耐電壓。有學者將絕緣層材料置于F2與其它惰性氣體混合的環(huán)境中，對絕緣層材料進行直接氟化，在絕緣層材料表面形成氟化屏蔽層，不但抑制電荷量的注入，并且增強了電荷量的消散率，改善了材質的絕緣性能能。中國科學院電工所邵濤使用低溫等離子法，利用介質阻擋放電(DBD)，對絕緣層材料表面進行射流放電處理。

      研究發(fā)現(xiàn)：CRF等離子表面處理設備改性后，絕緣層材料表面導電率增強(增大)，電荷量消散速度加快。與此同時，絕緣層材料表面引入改性后，由于改性設備等因素的限制，有可能對試樣表面造成損傷。然而，傳統(tǒng)式的氣體氟化方法需要多天的時間來處理。這些材質主要局限于CRF等離子表面處理設備絕緣試樣的改性研究。在實際GIL中，絕緣子的形狀特征與絕緣樣品有很大不同，大規(guī)模的工業(yè)使用仍需進一步研究。
       CRF等離子表面處理設備對絕緣層材料配方系統(tǒng)的改性可以從源頭上增強絕緣子的性能。為此，許多專家開始研究如何在絕緣層材料中加入無機填充料，從而全面提高材質的電荷量消散率，從而全面改善聚合物的絕緣性能能。AlN作為一種新型無機填充料，具有傳熱性高、熱膨脹系數(shù)低等優(yōu)點，備受國內國外專家的普遍的關注。研究表明，加上微米AlN后的環(huán)氧樹脂膠不僅增強了傳熱性，并且增強了機械性能。但與傳統(tǒng)式的Al2O3等填充料對比，加上AlN后環(huán)氧樹脂膠的絕緣性能能有所下降，限制了AlN在環(huán)氧樹脂膠配方填充料中的使用。