真空環(huán)境下的電漿清洗機(jī)應(yīng)用TSP/OLED產(chǎn)品解決方案：
        TSP/OLED產(chǎn)品解決方案，在TSP層面：對(duì)觸摸屏的核心工藝進(jìn)行清潔，改進(jìn)OCA/OCR、壓層、ACF、AR/AF等工藝上的附著力/涂層力，通過在各類大氣壓等離子體上使用，可以消除氣泡/異物，平均分布放電各類玻璃、薄膜，使表面無損傷。氮?dú)?N2)是應(yīng)用廣泛的氣體，其生產(chǎn)成本較低。本發(fā)明的氣體主要是結(jié)合在線電漿清洗機(jī)技術(shù)對(duì)材料進(jìn)行表面活化改性。也可應(yīng)用于真空環(huán)境。氮?dú)?N2)是種能夠提高工件表面浸潤(rùn)性的氣體。

         CRF電漿清洗機(jī)設(shè)備的解決方案，鑒于真空等離子體中有著很高的能量密度，所有具有穩(wěn)定熔融相的粉末實(shí)際上都能被轉(zhuǎn)變?yōu)橹旅堋⒗喂谈街趪娡客繉樱繉拥馁|(zhì)量取決于噴射粉末顆粒撞擊工件表面時(shí)的瞬間熔化程度。真空等離子噴涂技術(shù)為現(xiàn)代涂布機(jī)的生產(chǎn)提供了新的途徑。
       表面清潔的解決方案，采用射頻電源，在真空等電漿清洗機(jī)空腔中產(chǎn)生高能、無序等離子體，通過等離子轟擊被清洗的產(chǎn)品表面，使表面的污染物從產(chǎn)品上脫落，從而達(dá)到清洗目的。另外，還有一些特殊氣體，如四氟化碳(CF4)、六氟化硫(SF6)等，這些氣體在電漿清洗機(jī)中的使用對(duì)有機(jī)物質(zhì)的蝕刻和去除更為重要。