CRF plasma 等離子清洗機

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無論處理材料是哪些,電漿清洗機技術都可以改善表面能

無論處理材料是哪些,電漿清洗機技術都可以改善表面能:
       crf電漿清洗機產生等離子體的設備是在密閉性腔體中設定2個電極產生電場,并采用真空泵做到相應的真空度。隨之氣體愈來愈薄,分子結構間隔和分子結構或離子之間的自由運動距離也愈來愈長。在電場的功效下,這些發生碰撞,產生等離子體。這些離子具有高活性,其能量可以損壞幾乎所有的的化學鍵,并在任何暴露表面引發化學變化。各種不同氣體的等離子體具有各種不同的化學特性。例如,o2的等離子體具有很高的氧化性,可以氧化光刻膠反應產生氣體,進而做到清潔效果;刺激性氣體的等離子體具有較好的各向異性,以滿足腐蝕的需要。電漿清洗機處理時會發光,稱作電弧放電處理。

電漿清洗機

       電漿清洗機技術的較大特征是可以處理金屬、半導體材料、氧化物和聚合物材料,如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧樹脂,甚至聚四氟乙烯,可以做到整體和局部和復雜結構的清潔。
       隨之經濟的發展,大家的生活水平不斷提高,對商品品質的需要也愈來愈高。電漿清洗機技術逐步進入生活商品生產行業;此外,隨之科學技術的不斷發展、各類技術問題的持續提出和新型材料的不斷出現,逐漸增多的科研機構認識到等離子體技術的重要性,并投入了大量資金進行技術研究。等離子體技術在其中發揮了重要功效。我們深信,電漿清洗機技術的應用范圍將愈來愈廣;隨之技術的成熟和成本的降低,其應用將愈來愈受歡迎。

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