CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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等離子設(shè)備為何在市場(chǎng)上有如此好的反響呢?

  等離子設(shè)備在處理聚合物表面時(shí)所發(fā)生的化學(xué)改性是因?yàn)樽杂苫?,等離子設(shè)備處理的時(shí)間越長(zhǎng),放電的功率就越大,這是需要一個(gè)很好的掌握性的。常用的等離子清洗機(jī)功率大概是一千W。做過(guò)等離子表面清洗機(jī)表面處理的產(chǎn)品可以保留多久,關(guān)于這個(gè)問(wèn)題這個(gè)是根據(jù)產(chǎn)品本身的材質(zhì)來(lái)的,為了避免產(chǎn)品受到二次污染,在做了等離子表面處理之后可以進(jìn)行下一道工序,這樣可以有效的解決了二次污染問(wèn)題,也提高了產(chǎn)品的性能和質(zhì)量,而且等離子清洗機(jī)在使用過(guò)程中是不會(huì)產(chǎn)生有害物質(zhì),因?yàn)榈入x子清洗機(jī)在處理的時(shí)候它有全套的防范措施,會(huì)配備排風(fēng)系統(tǒng),少部分的臭氧會(huì)被空氣電離,所以對(duì)人體是沒(méi)有什么危害性的。正是這一特性,等離子設(shè)備才在市場(chǎng)取得了很好的成績(jī)。

等離子設(shè)備

  說(shuō)到等離子處理設(shè)備,廢氣處理用的等離子光解凈化器、金屬焊接切割用的等離子弧焊機(jī)、產(chǎn)品材料表面處理用的等離子清洗機(jī)都是屬于等離子處理設(shè)備的一種,等離子清洗機(jī)是專門(mén)用于材料和產(chǎn)品的表面處理及改性處理的等離子處理設(shè)備,氣體輝光或亞輝光放電的方式產(chǎn)生等離子體,可實(shí)現(xiàn)不同的處理目的。通常所常見(jiàn)的等離子清洗機(jī)有兩種,一種是低壓真空等離子表面處理設(shè)備,一種是常壓大氣等離子表面處理設(shè)備,分別為真空和大氣型的等離子清洗機(jī)。

  與濕法的化學(xué)處理工藝不同,等離子清洗機(jī)處理是一種干式處理工藝,等離子清洗機(jī)所使用的通常都是氣體,且為常見(jiàn)的氧氣、氮?dú)狻嚎s空氣等氣體,不需要使用有(機(jī))化學(xué)溶液,而且處理所產(chǎn)生的大多也是二氧化碳等無(wú)害氣體,正因反應(yīng)物和產(chǎn)生物都為氣體,也就不需要進(jìn)行烘干、廢水處理,因此說(shuō)等離子清洗機(jī)處理沒(méi)有廢氣廢水是可以實(shí)現(xiàn)的。使用等離子清洗機(jī)處理確實(shí)更加環(huán)保和節(jié)約能源,而且從工藝來(lái)看,工藝也更加簡(jiǎn)單安(全),另外就日常處理成本來(lái)看,僅需少量用電和耗材維保費(fèi)用。

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