電路板電漿清洗機(jī)蝕刻有效去除表面材料多晶硅殘留的有機(jī)膠體：
        5g技術(shù)的不斷發(fā)展，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體領(lǐng)域的濕法蝕刻技術(shù)鑒于其固有的限制性已慢慢限定了其進(jìn)步，已無(wú)法符合VLSIμm甚至納米線材的加工要求。電漿清洗機(jī)多晶硅片清洗設(shè)備干法蝕刻法鑒于其產(chǎn)生的離子密度高，蝕刻均勻，蝕刻側(cè)壁垂直度大，表面光潔度高，能清除表面雜質(zhì)，在半導(dǎo)體加工工藝中慢慢取得了普遍的適用。電漿表面處理機(jī)去膠，去膠氣體為O2。本產(chǎn)品經(jīng)過(guò)將電路板放置于真空反應(yīng)系統(tǒng)中，通入少許的O2，加上高頻高壓，由高頻信號(hào)發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號(hào)，在石英管中產(chǎn)生較強(qiáng)的電磁場(chǎng)，使氧離子化，使氧離子、氧原子、氧分子、電子等混合物質(zhì)產(chǎn)生輝光柱。活性原子態(tài)氧能迅速將殘余膠體氧化為易揮發(fā)氣體，并使之揮發(fā)而被帶走。

        隨著現(xiàn)代半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)步，對(duì)蝕刻加工的要求越來(lái)越高，多晶硅片電漿蝕刻清洗設(shè)備也應(yīng)運(yùn)而生。確保產(chǎn)品生產(chǎn)過(guò)程穩(wěn)定、重復(fù)性的關(guān)鍵因素之一是產(chǎn)品穩(wěn)定性。CRF誠(chéng)峰智造電漿清洗機(jī)是1種多功能電漿清洗機(jī)設(shè)備，經(jīng)過(guò)配置不同的組件，使其具備了鍍層(涂層)、腐蝕、電漿化學(xué)反應(yīng)和粉末等離子體處理等多種功能。在清除了電路板上的殘留物之后，將電路板清理干凈。電路板電漿清洗機(jī)去膠操作簡(jiǎn)單，去膠效率高，表面干凈光潔，無(wú)劃痕，成本低，環(huán)保。