CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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真空等離子清洗機(jī)有哪些地方是需要改善的呢

真空等離子清洗機(jī)工作原理:
       等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在,如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì):處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子;處于激(活)狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)(自由基);離子化的原子、分子;未反應(yīng)的分子、原子等,但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。在真空腔體里,通過(guò)射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無(wú)序的等離子體,通過(guò)等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面.以達(dá)到清洗目的。等離子體處理可以被納入導(dǎo)電、半導(dǎo)電以及非導(dǎo)電的應(yīng)用中。等離子清洗表面的有效方法是去除雜質(zhì)、污染物、殘留物和有(機(jī))化合物。這一過(guò)程被稱(chēng)為微清洗或蝕刻,為提高粘附力提供了另一個(gè)重要方面。另外,等離子體處理的表面活(化)很(快)速、有效、經(jīng)濟(jì)、環(huán)保。
真空等離子清洗機(jī)
真空等離子清洗機(jī)處理產(chǎn)品的的散熱方式和改善措施:
  我們都知道,散熱的方式大致有四種:輻射、傳導(dǎo)、對(duì)流、蒸發(fā)。對(duì)于真空等離子清洗機(jī)的反應(yīng)腔本體、電極板、托架以及附件的散熱,主要是靠傳導(dǎo)散熱和輻射散熱,少量的對(duì)流散熱。
  1. 真空等離子清洗機(jī)的反應(yīng)腔室本體一般都是鋁或不銹鋼的材質(zhì),電極板基本上采用鋁合金,這兩部分在等離子體處理產(chǎn)品的時(shí)候吸收了大量的熱,不加配套設(shè)施的情況下,就會(huì)以傳導(dǎo)的方式和熱射線(xiàn)的形式散發(fā)給周?chē)鷾囟容^低的物體,例如機(jī)臺(tái)緊固件、外殼和低溫空氣中。
  改善措施:給電極和反應(yīng)腔室增加冷卻系統(tǒng),例如電極采取蛇形管貼附或者中通冰水的方式,可以大大改善散熱效(果)。
  2. 真空狀態(tài)下氣體往往以擴(kuò)散方式進(jìn)行,很難形成對(duì)流;真空等離子清洗機(jī)腔室內(nèi)的熱量,由真空泵帶走的也是比較有限。
  改善措施:加(大)進(jìn)氣量或提高抽速,但要考慮放電的真空度和等離子處理效(果)。
  其他方面,等離子發(fā)生器的選型、功率大小的設(shè)定、真空腔室大小和電極結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)等,對(duì)于散熱問(wèn)題的改善也是有幫助的。

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