誠(chéng)峰智造CRF常壓等離子機(jī)噴涂法控制涂層技術(shù)難點(diǎn)：
       CRF常壓等離子噴涂工藝將粉粒載氣送入高溫、高速等離子體焰流，加熱加速、制冷、制冷，在熔化或半熔化狀態(tài)下，快速展開(kāi)、制冷固化，最終產(chǎn)生平面單層，與襯底接觸。在宏觀(guān)尺度上，大量單層不斷堆積最終產(chǎn)生薄膜。大氣層等離子噴涂涂層的特征單元，單片層的形態(tài)特征和單片層間的疊加行為決定了涂層的微觀(guān)結(jié)構(gòu)。單層是熱噴涂制備涂層的結(jié)構(gòu)單元，其特點(diǎn)與涂層的宏觀(guān)性能密切相關(guān)。

       大氣壓CRF常壓等離子噴涂技術(shù)可控鍍層技術(shù)的難點(diǎn)在于工藝中有很多因素需要控制，而且經(jīng)常互相影響。熔點(diǎn)高、速度快、物理化學(xué)狀態(tài)廣泛分布的特點(diǎn)，對(duì)實(shí)時(shí)觀(guān)測(cè)和過(guò)程控制都是一個(gè)挑戰(zhàn)。在CRF常壓等離子噴涂工藝中，單片層的產(chǎn)生主要受控于熔滴制冷能力。熔滴快速制冷時(shí)，液體化學(xué)物質(zhì)流通性快速減少，趨向于產(chǎn)生盤(pán)狀單片層；相反，濺射趨勢(shì)較強(qiáng)。
       與涂層性能密切相關(guān)的是由于單片層外形變化所引起的：盤(pán)狀單片層與基片的結(jié)合強(qiáng)度較高，而濺射狀單片層與基片的結(jié)合強(qiáng)度相對(duì)較低。利用現(xiàn)場(chǎng)測(cè)溫、測(cè)速，尤其是能夠跟蹤熔滴內(nèi)溫度和速度的測(cè)量，無(wú)疑是研究工藝參數(shù)對(duì)單片層特性影響的有效手段。另外，單片層狀結(jié)構(gòu)特征的數(shù)據(jù)化及其與涂層整體性能之間建立(半)定量關(guān)系也是今后研究的重要方向。